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   處理產(chǎn)品：含光刻膠的晶片

   行業(yè)：半導(dǎo)體/太陽能光伏行業(yè)

   材料：正性和負(fù)性漆料

   工藝：光刻膠灰化

   下一步工藝：維修或進(jìn)一步處理

概述：人們“除渣”工藝用于去除溝槽中的殘留光刻膠。等離子體灰化是從蝕刻的晶片上去除光致抗蝕劑（光敏涂層）的過程，使用等離子體刻蝕機(jī)，高頻輝光放電反應(yīng),使反應(yīng)氣體激活成活性粒子,如原子或游離基,這些活性粒子擴(kuò)散到需刻蝕的部位,在那里與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng),形成揮發(fā)性反應(yīng)物而被去除如 氧氟化物是常見的活性物質(zhì)，反應(yīng)性物質(zhì)與光致抗蝕劑結(jié)合形成灰分，再用真空泵除去灰分。

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