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等離子清洗機(jī)用的耗材跟傳統(tǒng)清洗機(jī)不同，等離子清洗機(jī)是干法清洗，常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮?dú)?(Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）.

總體來說，傳統(tǒng)清洗方法，盡管看起來便宜，但需要耗費(fèi)大量的能源和環(huán)境為代價。這種方法的干燥過程非常緩慢，還需要消耗大量的能源。等離子體清洗技術(shù)消除了采用濕化學(xué)方法清洗中存在的各種危險，在清洗過程中也沒有廢液產(chǎn)生，傳統(tǒng)清洗技術(shù)中所使用的化學(xué)試劑會對環(huán)境造成很大的危害，等離子體輔助清洗是一種能有效替代化學(xué)清洗的技術(shù)，是一種環(huán)境友好型的清洗技術(shù)，既安全又環(huán)保。而且等離子清洗機(jī)耗材跟傳統(tǒng)清洗方法相比簡直就是微乎其微。

等離子清洗機(jī)是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對工件進(jìn)行表面處理，無論是進(jìn)行清洗還是表面活化，為達(dá)到最佳的處理效果我們會選用不同的工藝氣體。

等離子體清洗技術(shù)目前已經(jīng)被廣泛應(yīng)用在金屬、聚合物和陶瓷表面的清洗處理，對混合電路和印刷電路板表面殘留金屬物的去除，生物醫(yī)學(xué)植入材料表面的消毒和清洗，硅晶片表面的清洗和考古文物的修復(fù)清洗等領(lǐng)域。