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  有了解過等離子清洗設(shè)備的人都知道，等離子清洗是干法清洗，其中分為真空和大氣壓兩種類型。顧名思義，大氣壓的使用環(huán)境就是常壓，而真空即是真空環(huán)境下正常工作。真空清洗機在真空泵制造過程中制造一定的真空條件以滿足清洗的需要，等離子體的清洗主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合，如低壓氣體輝光等。

真空等離子清洗原理：

  等離子體在電磁場中移動，轟擊被處理工具表面。其中需要高能量和低壓力，依靠原子和離子的最大速度是在表面被轟擊就能實現(xiàn)，高能量會加快等離子體的速度，低壓是增加原子碰撞前的平均距離所必需的，即平均自由距離、路徑越長，離子轟擊待清潔物質(zhì)表面的概率越高。因此，等離子清洗后能達到活化、蝕刻效果，處理后的污垢和氣體將被排放，腔體又會回到正常的大氣壓力。

真空等離子清洗流程：

  首先，將需要處理的工件固定在真空室內(nèi)，將真空泵等設(shè)備啟動真空放電至10pa左右；然后將處理氣體引入真空室（根據(jù)不同清洗材料及工藝選擇對應(yīng)的反應(yīng)氣體），并保持壓力在100pa左右；

  其次，在真空室內(nèi)的電極和接地裝置之間加入高頻電壓，使氣體被滲透，等離子體被輝光放電離化；

  最后，待等離子體完全充滿在真空室內(nèi)后開始清洗操作，整個清洗過程將持續(xù)幾十秒至幾分鐘（根據(jù)工藝需求設(shè)置）。當(dāng)完成時,真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,就可以進行粘接或下一步程序。

  真空等離子清洗設(shè)備是高端的清洗設(shè)備，能夠清洗其他清洗設(shè)備無法達到的清潔效果，經(jīng)真空等離子體清洗過后，產(chǎn)品表面附著力大大提高，方便后續(xù)的粘接、印刷、噴涂等工序的進行，保證質(zhì)量的可靠性和耐久性。

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