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  中國等離子體刻蝕機(jī)能夠在取得技術(shù)突破，可以說和尹志堯?yàn)榇淼脑趹?yīng)用材料、科林等國際巨頭有著20—30年半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)制造的經(jīng)驗(yàn)的資深工程師分不開。尹志堯曾經(jīng)擔(dān)任應(yīng)用材料的公司副總裁（應(yīng)用材料是半導(dǎo)體設(shè)備廠商龍頭老大），參與領(lǐng)導(dǎo)幾代等離子體刻蝕設(shè)備的開發(fā)，在美國工作時就持有86項(xiàng)專利。

  如今，華為芯片被斷供，雖說高通已經(jīng)允許供貨，但也只能賣給華為4G芯片，現(xiàn)在5G才是主流，買4G芯片無疑給高通清庫存。在芯片制造中，刻蝕是關(guān)鍵的工序之一，在整個芯片生產(chǎn)中，等離子刻蝕機(jī)占所有生產(chǎn)設(shè)備投入約20%，可見這種設(shè)備是多么的重要了。

  等離子刻蝕機(jī)技術(shù)一直被外國的公司壟斷，芯片技術(shù)的發(fā)展日新月異，就算我們花高價(jià)從國外購買，他們也是將早已淘汰落后的舊設(shè)備出口過來，真正先進(jìn)的技術(shù)永遠(yuǎn)掌握在他們的手中。為了打破國外對于芯片技術(shù)的壟斷，中國投入了大量的人力和物力資源，經(jīng)過中國科研人員不懈努力，終于在刻蝕方面取得了技術(shù)突破，讓芯片技術(shù)再也不能卡我們的脖子，下面這款等離子刻蝕機(jī)是金鉑利萊自己研發(fā)的等離子刻蝕機(jī)（等離子處理機(jī)）。

  金鉑利萊等離子處理設(shè)備主要包括預(yù)真空室、刻蝕腔、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分。

等離子處理設(shè)備的工作原理是化學(xué)過程和物理過程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是在真空低氣壓下，射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈，以一定比例的混合刻蝕氣體經(jīng)耦合輝光放電，產(chǎn)生高密度的等離子體，在下電極的RF 射頻作用下，這些等離子體對基片表面進(jìn)行轟擊，基片圖形區(qū)域的半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被打斷，與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì)，以氣體形式脫離基片，從真空管路被抽走。

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