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隨著社會的發(fā)展，科技的進步，等離子體技術(shù)作為一種制造工藝也隨之發(fā)展。硅晶片的 等離子清洗 目的是去除表面殘留的光刻膠,因為硅晶片、芯片和高性能半導(dǎo)體都是靈敏性極高的電子元件，對清洗要求是非常高的，因此現(xiàn)在工藝中我們會利用PLASMA清洗機清洗優(yōu)勢具有高度的均勻性，穩(wěn)定的刻蝕速率；極大地改變了硅晶片原始鈍化層的形貌和潤濕性，大大提高了附著力效果。

√ 超精細清洗（元件清洗）低溫處理過程不會損傷敏感結(jié)構(gòu)

√ 對表面進行選擇性地功能化處理以便進行后續(xù)的加工

√ 精益的工藝布局，可搭載流水線實現(xiàn)在線全自動生產(chǎn)，顯著的成本節(jié)約

√ 提高生產(chǎn)工藝，降低粘接工藝中的不良率

    PLASMA清洗機 的應(yīng)用非常廣泛，在半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片中，能夠高容量自動化處理多個硅晶片，有效清除掉硅晶片上的氧化物或金屬等污染物，在半導(dǎo)體集成電路制作中提高了集成電路的產(chǎn)量、可靠性和性能。

    等離子技術(shù)為半導(dǎo)體生產(chǎn)發(fā)掘出新的潛力，尤其是對于全自動化生產(chǎn)這一趨勢。金鉑利萊科技有限公司是自主研發(fā)生產(chǎn)PLASMA等離子清洗機。不僅針對于大學(xué)/科研機構(gòu)、工廠研發(fā)的實驗室型和工廠批量處理裝置，我們生產(chǎn)的電漿清洗機具有多種規(guī)格、多種配置功能、性能及穩(wěn)定性強且操作方便的特點。

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