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  光刻膠又稱光致抗蝕劑，光刻膠經(jīng)過曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結(jié)構(gòu)面上形成所需要的圖案，在進(jìn)行后一層處理時，需要將前一次使用后的光刻膠完全去除。

  光刻膠傳統(tǒng)的去除方法是采用濕式方法去除，這樣最終的結(jié)果就是清洗不徹底，容易引入雜質(zhì)等等。

   在低溫等離子清洗技術(shù)逐漸成熟時，晶圓光刻膠都會選擇用這種干式清洗來進(jìn)行處理，像金鉑利萊的等離子清洗機(jī)就可以有效去除晶圓光刻膠和表面的有機(jī)物，不僅不會破壞原有的性能的同時還活化了晶圓表面，大大提高晶圓表面的親水性，這樣也使得晶圓的質(zhì)量越來越高。

   等離子清洗機(jī)是利用等離子體的物理和化學(xué)特性，使得材料表面特性發(fā)生變化，從而提高材料表面的親水性和粘接性等等，因此也被諸多行業(yè)應(yīng)用。國內(nèi)有很多等離子清洗機(jī)品牌，大家一定要貨比三家，這里給大家推薦一下金鉑利萊，它的最大的優(yōu)點(diǎn)就是等離子清洗設(shè)備種類齊全，設(shè)備質(zhì)量好，關(guān)鍵還在于售前售后服務(wù)都好！

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