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等離子刻蝕技術(shù)可實現(xiàn)各向同性刻蝕和各向異性刻蝕，不同于濕法刻蝕，等離子刻蝕屬于干法刻蝕，可實現(xiàn)在材料表面即發(fā)生物理反應(yīng)同時也發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。

等離子刻蝕的原理可以概括為以下幾個步驟：

● 在低壓下，反應(yīng)氣體在射頻功率的激發(fā)下，產(chǎn)生電離并形成等離子體，等離子體是由帶電的電子和離子組成，反應(yīng)腔體中

的氣體在電子的撞擊下，除了轉(zhuǎn)變成離子外，還能吸收能量并形成大量的活性基團(tuán)（Radicals）

● 活性反應(yīng)基團(tuán)和被刻蝕物質(zhì)表面形成化學(xué)反應(yīng)并形成揮發(fā)性的反應(yīng)生成物

● 反應(yīng)生成物脫離被刻蝕物質(zhì)表面，并被真空系統(tǒng)抽出腔體。

在平行電極等離子體反應(yīng)腔體中，被刻蝕物是被置于面積較小的電極上，在這種情況，一個直流偏壓會在等離子體和該電極間形成，并使帶正電的反應(yīng)氣體離子加速撞擊被刻蝕物質(zhì)表面，這種離子轟擊可大大加快表面的化學(xué)反應(yīng)，及反應(yīng)生成物的脫附，從而導(dǎo)致很高的刻蝕速率，正是由于離子轟擊的存在才使得各向異性刻蝕得以實現(xiàn)。

等離子體刻蝕處理的材料表面進(jìn)行處理,活化,激活,提高表面附著力,全自動運行,可24小時連續(xù)工作,無需人工看管等離子體刻蝕處理效果非常均勻穩(wěn)定.