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  宇宙間的萬物都是由物質(zhì)組成的，所有的物質(zhì)都是由分子、原子、各種粒子間的間隙組成的。原子本身及原子間的間隙很細微，因此可以說所有物體的表面上都存在著極其細微的，肉眼無法辨識的污染物。

  要想去除這些表面污染物，就可以通過利用等離子體進行表面清潔，來順利對表面進行后續(xù)加工處理，包括如下處理工藝：粘接、 印刷、涂層、 鍵合、蝕刻等。

  金鉑利萊等離子體技術(shù)清潔機幾乎可以為所有類型的污染物、基材及后續(xù)處理提供解決方案。除此以外，等離子清潔設(shè)備還能分解由分子構(gòu)成的殘留污染物。針對個別情況下的不同要求，提供有不同的清洗方法。

如何通過等離子體進行清潔？

  等離子清潔原理：主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

（金鉑利萊等離子清洗設(shè)備處理聚合物過程）

等離子清潔與傳統(tǒng)清潔方式相比，具有獨特的優(yōu)勢：

能量高：等離子體是具有超?；瘜W(xué)活性的高能粒子，在不添加催化劑的溫和條件下即可實現(xiàn)傳統(tǒng)熱化學(xué)反應(yīng)體系所不能實現(xiàn)的反應(yīng)（聚合反應(yīng)）；

速度快：氣體放電瞬間發(fā)生等離子體反應(yīng)，有時幾秒鐘就可改變表面的性質(zhì)；

溫度低：接近常溫，特別適合處理高分子材料；

功能強：僅涉及高分子材料淺表面（＜10微米），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種及以上新的功能；

成本低：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行。因此，采用等離子體高分子材料改性技術(shù)可能克服傳統(tǒng)方法使用中的缺陷，使高分子材料表面加工更符合環(huán)保原則。

廣適性：不分處理對象的基材類型，均可進行處理，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地處理；

環(huán)保性：等離子體作用過程是氣-固相干式反應(yīng)，不消耗水資源、無需添加化學(xué)試劑，對環(huán)境無殘留物，具有綠色環(huán)保特征；

等離子清潔設(shè)備（真空）

等離子清潔設(shè)備（常溫常壓）

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